PDMS微流控芯片制作系統 EasyPDMS

圖片

簡介

PDMS芯片制作一般包含以下所列舉工藝：① 清洗；② 勻膠；③ 曝光光刻；④ 顯影；⑤ 烤膠；⑥ PDMS成型；⑦ 等離子表面活化處理；⑧ 鍵合；⑨ 打孔。EasyPDMS微流控芯片制作系統可以提供完成以上各工藝流程的整套系統或單個設備。

用戶可以根據自己的需求從設備列表中選取所對應工藝的設備，同時，我們也提供PDMS芯片制作實驗室的整體方案設計和搭建服務，從潔凈間設計到實驗室布局，再到設備選擇，以及用戶采購后的安裝調試及培訓， 客戶只需要提出需求，我們提供一整套服務，可以做到交鑰匙工程。

工藝及設備對應表格：

規格參數

功能圖解

設備簡介

 清洗工藝：超聲清洗機（左）和CUTE 等離子清洗機（右）

② 勻膠工藝（2選1）：SC100勻膠顯影（左）和ZentriForm PDMS成型機（右，具備勻膠功能）

曝光光刻（2選1）：UV-KUB 2單層光刻機（左）和UV-KUB 3對位光刻機（右）

④ 顯影：SC100勻膠顯影機

⑤ 烤膠：HP100 精密熱板

⑥PDMS成型：ZentriForm PDMS成型機

⑦等離子表面活化處理：CUTE 等離子清洗機

⑧鍵合：HP100 精密熱板

⑨打孔：打孔器

應用系統

PDMS芯片制作