【總體描述】
        EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領域,LS 10用于生命科學領域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界領先的X射線分析技術。革命性的Beamsleeve的設計，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。

【技術參數(shù)】
    分辨率： 3.0nm@ 30KV(SE and W)  4.0nm@ 30KV(VP with BSD) 
    加速電壓：0.2—30KV 
    放大倍數(shù)：7—1000000x 
    探針電流：0.5PA-5μA
    X-射線分析工作距離：8.5mm    35度接收角 
    低真空壓力范圍：10—400Pa (LS10:10-3000Pa)
    工作室：310mm(φ)×220mm(h) 
    5軸優(yōu)zhong心自動樣品臺：X=80mm  Y=100mm  Z=35mm  T=-10°- 90°R=360°

    較大試樣高度：100mm，大試樣直徑：200mm 
    系統(tǒng)控制：基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng)
    存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels

【產品應用】
        掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。