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Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機 NOC-4000
- 品牌：美國Nano-Master
- 型號： NOC-4000
- 產地：美洲 美國
- 供應商報價：面議
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深圳市藍星宇電子科技有限公司
更新時間：2025-05-30 09:17:56 -
銷售范圍售全國
入駐年限第7年
營業執照已審核
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產品特點
- Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機 NOC-4000,提供zuixian極n的原子級清洗、拋光以及光學鍍膜技術。
詳細介紹
- Nano-master 離子束刻蝕濺射鍍膜一體機 NOC-4000NANO-MASTER 的 NOC 系列光學鍍膜系統提供zuixianjin的原子級清洗、拋光以及光學鍍膜技術。光學樣片放置于一個腔體種進行原子級清洗和拋光處理，之后自動傳送到第二個腔體中進行光學鍍膜，這個過程無需間斷真空。系統也可以獨立使用其中的一個腔體，每一個都可以實現各自的自動上/下載片功能。緊湊型設計，占地面積僅為 46”x44”，不銹鋼立柜。工藝過程通過觸摸屏 PC 和 LabView 軟件，可實現全自動的 PC控制，具有高度的可重復性，且具有友好的用戶界面。系統具有完整的安全聯鎖，提供四級密碼授權訪問保護，含：? 操作者權限：運行程序? 工藝師權限：添加/編輯和刪除程序? 工程師權限：可獨立控制子系統，并開發程序? 服務權限：NM 工程師故障診斷和排除真空系統包含渦輪分子泵和機械泵，極限真空可達到 5 x10-7Torr。渦輪分子泵與腔體之間的直連設計，系統可獲得**的真空傳導率，基本可以達到 15 分鐘可達到工藝真空，8 小時達到腔體極限真空。腔體壓力調節通過 PC 自動控制渦輪速度而全自動調節，快速穩定。在第一個腔體中通過離子束可達到原子級的清洗，離子源安裝在腔體頂部，離子源配套 2KV，300mA 的電源。樣品臺配套 4”或 6”基片夾具、水冷，并可對著離子束流實現+900C 到-900C 旋轉。系統配套氣動遮板，使得工藝運行前穩定離子束流。根據應用需要可以升級離子源，以支持更大尺寸晶圓片的處理。第二個腔體可以根據應用需要配套 ALD、PECVD、磁控、電子束蒸鍍、熱蒸鍍等鍍膜。膜厚監控儀校準后可實現原位膜厚測量，可以工藝時間或工藝膜厚為工藝終點條件，系統支持設定目標膜厚，當達到設定的目標膜厚時全自動結束工藝。水冷保護晶振夾具，膜厚和沉積速率以及晶振壽命可顯示，可存儲高達 100 個膜厚數據。系統的兩個腔體均配套單片的 Auto L/UL，可實現自動進樣、對準、出樣，在不間斷工藝真空情況下連續處理樣片。Load Lock腔體帶獨立真空系統和真空計，通過 PC 全自動監控。兩個腔體之間可以互相傳送樣片。整個過程計算機全自動控制。應用：? 光學鍍膜? Sputterint 濺射? IBAD 離子束輔助沉積? 離子束刻蝕清洗? 離子束輔助反應性刻蝕? 紅外鍍膜? 表面處理設備特點：? RF 射頻偏壓樣品臺? 膜厚原位監測? 極限真空 5 x 10-7Torr? **的真空傳導率設計，具有快速真空能力? PC 全自動控制，超高的精度及可重復性? 高質量薄層? 原子級的超凈表面? 原子級清洗和拋光? LabView 軟件的 PC 控制系統? 自動上/下載片? 兩個腔體可以分別獨立使用并實現自動上下載片? 兩腔體之間自動傳送，雙向傳送支持? 菜單驅動，密碼保護? 安全互鎖? 占地面積 46”D x 44”W系統可選：? 向下/向上濺射? 共濺射? DC, RF 以及脈沖電源? 離子束輔助沉積? 電子束源? 熱蒸鍍? 等離子源? ALD 沉積或 PECVD 沉積
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