?N-甲基吡咯烷酮（NMP）在光刻膠中的應用主要體現在其作為溶劑和清洗劑的角色。?

NMP在光刻膠中的應用主要體現在以下幾個方面：

1. ?溶劑作用?：在光刻膠的制備過程中，NMP作為溶劑，能夠幫助溶解光刻膠中的各種成分，使其均勻混合，從而保證光刻膠的質量和性能?12。

2. ?清洗作用?：在光刻過程中，NMP還常用于清洗硅片表面的雜質，確保光刻膠能夠均勻涂覆在硅片上，從而提高集成電路的制造精度和質量?12。

此外，NMP的物理化學性質也使其在光刻膠應用中具有獨特的優勢：

• ?高沸點?：NMP具有較高的沸點，能夠在高溫環境下保持穩定，適合在光刻過程中使用?12。

• ?極性強?：NMP的極性使其能夠與多種物質發生反應，增強其在光刻膠中的應用效果?2。

• ?無腐蝕性?：NMP對金屬等材料無腐蝕性，適合用于清洗和脫脂處理?2。

• ?環保性?：NMP的生物降解能力強，使用后易于處理，符合環保要求?