- 2025-05-22 17:32:40共聚焦白光干涉儀
- 共聚焦白光干涉儀是一種高精度表面形貌測(cè)量?jī)x器，基于白光干涉原理，通過(guò)共聚焦技術(shù)實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。它適用于微小結(jié)構(gòu)的三維形貌測(cè)量、表面粗糙度檢測(cè)、薄膜厚度測(cè)量等，具有非接觸、高精度、快速測(cè)量等特點(diǎn)。在半導(dǎo)體、光學(xué)元件、材料科學(xué)等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，為科研和工業(yè)生產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)支持。
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- Sensofar共聚焦白光干涉儀 | 白光干涉技術(shù)
- Sensofar共聚焦白光干涉儀為了測(cè)量非常光滑的表面到中等粗糙表面的表面高度，開(kāi)發(fā)了干涉技術(shù)，可在任何放大倍率下實(shí)現(xiàn)相同的系統(tǒng)噪聲。對(duì)于 PSI，它可實(shí)現(xiàn)優(yōu)于 0.01 nm 的系統(tǒng)噪聲。
共聚焦白光干涉儀產(chǎn)品
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- 儀光新型共聚焦白光干涉儀OPTIC A60
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- Sensofar三維共聚焦白光干涉儀S lynx 2
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- Sensofar集成式三維共聚焦白光干涉儀測(cè)量頭S mart2
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- 西班牙Sensofar 5軸空間共聚焦白光干涉儀S neox Five Axis
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共聚焦白光干涉儀問(wèn)答
- 2025-05-16 11:15:22白光干涉儀如何掃描
- 白光干涉儀如何掃描 白光干涉儀是一種通過(guò)干涉原理測(cè)量光學(xué)距離、厚度或表面形貌的精密儀器。與傳統(tǒng)的激光干涉儀不同，白光干涉儀利用白光源的寬譜特性，結(jié)合干涉技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)高精度、高分辨率的表面測(cè)量。本文將深入探討白光干涉儀的工作原理、掃描過(guò)程及其在實(shí)際應(yīng)用中的關(guān)鍵步驟，旨在為讀者提供對(duì)白光干涉儀掃描過(guò)程的全面了解，并幫助其掌握如何利用這一儀器實(shí)現(xiàn)高效、的測(cè)量。 白光干涉儀的核心掃描過(guò)程主要依賴于干涉條紋的形成與分析。掃描開(kāi)始時(shí)，儀器首先將白光源通過(guò)分光器傳遞到待測(cè)物體表面。待測(cè)物體表面反射回來(lái)的光波會(huì)與參考光波發(fā)生干涉，形成干涉條紋。由于白光源具有寬光譜特性，干涉條紋的變化與表面形貌的細(xì)微變化緊密相關(guān)。通過(guò)精確地記錄這些干涉條紋的變化，白光干涉儀可以得到高精度的表面高度信息。 在實(shí)際操作中，掃描過(guò)程通常由精密的機(jī)械部件控制。儀器會(huì)通過(guò)精確調(diào)節(jié)光源的相位差，使得干涉條紋在掃描過(guò)程中能夠清晰顯示。接著，掃描系統(tǒng)會(huì)將待測(cè)表面分成多個(gè)小區(qū)域，逐一測(cè)量每個(gè)區(qū)域的干涉條紋，終將所有數(shù)據(jù)綜合，繪制出完整的三維表面圖像。此過(guò)程要求儀器具有極高的穩(wěn)定性和精度，以確保測(cè)量結(jié)果的可靠性和一致性。 白光干涉儀在掃描過(guò)程中還會(huì)進(jìn)行干涉條紋的處理與分析。由于表面形貌的微小變化會(huì)導(dǎo)致干涉條紋的微小位移，儀器通過(guò)復(fù)雜的算法對(duì)這些位移進(jìn)行精確解算，從而得出高精度的表面形貌數(shù)據(jù)。為了提高掃描效率，現(xiàn)代白光干涉儀還會(huì)結(jié)合自動(dòng)化控制技術(shù)，使得整個(gè)掃描過(guò)程更加快速且高效。 白光干涉儀通過(guò)精確的干涉條紋掃描，能夠獲取高分辨率的表面數(shù)據(jù)，其在精密測(cè)量和表面形貌分析中具有不可替代的優(yōu)勢(shì)。隨著技術(shù)的發(fā)展，白光干涉儀的掃描精度和速度不斷提升，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件檢測(cè)、材料科學(xué)等領(lǐng)域，為各類高精度測(cè)量需求提供了強(qiáng)有力的技術(shù)支持。
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- 2025-05-16 11:15:23白光干涉儀怎么測(cè)半徑
- 白光干涉儀怎么測(cè)半徑 白光干涉儀是一種廣泛應(yīng)用于精密測(cè)量領(lǐng)域的光學(xué)儀器，能夠通過(guò)干涉原理對(duì)物體的幾何特性進(jìn)行高精度測(cè)量。測(cè)量半徑是白光干涉儀的一項(xiàng)重要應(yīng)用，尤其在光學(xué)工程、材料科學(xué)以及微納米技術(shù)中具有重要意義。本篇文章將詳細(xì)介紹如何利用白光干涉儀進(jìn)行半徑測(cè)量，包括原理、操作步驟及注意事項(xiàng)，并提供一些實(shí)用的技巧以提高測(cè)量精度和效率。 白光干涉儀原理簡(jiǎn)介 白光干涉儀的基本原理基于光的干涉效應(yīng)。當(dāng)兩束相干光通過(guò)不同路徑傳播后，若兩束光波在重新合并時(shí)波長(zhǎng)差異恰好使其產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，就能夠形成明暗交替的干涉條紋。通過(guò)分析這些條紋的變化，可以獲取目標(biāo)物體的表面形狀、尺寸等信息。 半徑測(cè)量的基本流程 在實(shí)際測(cè)量中，使用白光干涉儀測(cè)量半徑的關(guān)鍵是獲取干涉條紋并通過(guò)它們推算出物體的曲率半徑。具體步驟如下： 調(diào)整白光干涉儀的光源：白光干涉儀需要一個(gè)白光光源，通過(guò)濾光片或其他光學(xué)元件確保光源的波長(zhǎng)范圍適合測(cè)量。 將待測(cè)物體放置于儀器中：待測(cè)物體的表面應(yīng)平整且具有反射性，以便干涉光能夠有效反射回來(lái)。 記錄干涉條紋：調(diào)整儀器位置，確保干涉條紋清晰可見(jiàn)。干涉條紋的形態(tài)、間距以及變化情況能反映出物體表面的曲率。 分析干涉條紋：根據(jù)干涉條紋的變化，通過(guò)數(shù)學(xué)公式與儀器內(nèi)置的軟件進(jìn)行數(shù)據(jù)計(jì)算，得出待測(cè)物體的半徑。 重復(fù)測(cè)量與數(shù)據(jù)處理：為了確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性，應(yīng)進(jìn)行多次測(cè)量，并對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行適當(dāng)?shù)钠交幚砗驼`差修正。 測(cè)量精度的影響因素 在使用白光干涉儀測(cè)量半徑時(shí)，有多個(gè)因素可能會(huì)影響測(cè)量精度，如環(huán)境光的干擾、儀器的校準(zhǔn)、光源的穩(wěn)定性等。為提高精度，應(yīng)確保測(cè)量環(huán)境的光線條件穩(wěn)定，定期進(jìn)行儀器校準(zhǔn)，且選擇合適的光源和波長(zhǎng)范圍。 結(jié)論 白光干涉儀是一種精密的光學(xué)測(cè)量工具，憑借其高分辨率和準(zhǔn)確性，被廣泛應(yīng)用于半徑等幾何尺寸的測(cè)量中。通過(guò)精確調(diào)控干涉條紋的形成與分析，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)物體半徑的高效、精確測(cè)量。要獲得佳測(cè)量結(jié)果，除了掌握操作技巧外，合理排除外界干擾因素以及定期維護(hù)儀器也是至關(guān)重要的。
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- 2025-05-16 11:15:23白光干涉儀能測(cè)曲面嗎
- 白光干涉儀能測(cè)曲面嗎 白光干涉儀是一種精密的測(cè)量工具，廣泛應(yīng)用于表面形貌、厚度以及物體形狀等方面的高精度檢測(cè)。其核心原理依托于干涉現(xiàn)象，利用光波的相位差來(lái)獲取非常細(xì)微的物理量變化。許多技術(shù)領(lǐng)域和科研項(xiàng)目中都使用白光干涉儀來(lái)檢測(cè)微小的幾何形狀變化，尤其是在高精度的曲面測(cè)量方面具有顯著優(yōu)勢(shì)。本篇文章將深入探討白光干涉儀是否能有效測(cè)量曲面，分析其技術(shù)原理與應(yīng)用范圍，以及該儀器在實(shí)際測(cè)量過(guò)程中面臨的挑戰(zhàn)與解決方案。 白光干涉儀的基本原理 白光干涉儀通過(guò)干涉現(xiàn)象來(lái)檢測(cè)物體表面的細(xì)微變化。具體來(lái)說(shuō)，干涉儀利用兩束光源產(chǎn)生干涉圖樣，其中一束光源直接照射到物體表面，另一束則經(jīng)過(guò)反射或折射等方式到達(dá)探測(cè)器。兩束光相遇時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋，這些條紋的變化能夠揭示表面形態(tài)或位置的微小變化。因此，白光干涉儀不僅能夠檢測(cè)平面表面，還可以通過(guò)調(diào)整光學(xué)系統(tǒng)來(lái)適應(yīng)曲面的檢測(cè)。 白光干涉儀的曲面測(cè)量能力 白光干涉儀在測(cè)量曲面時(shí)，能夠通過(guò)其光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)整焦距，從而適應(yīng)曲面的彎曲變化。這使得白光干涉儀可以在一定范圍內(nèi)精確地測(cè)量不同形狀和復(fù)雜度的曲面。其高分辨率能夠捕捉到微小的凹凸不平，即使是表面粗糙度和微觀結(jié)構(gòu)的細(xì)微變化，也能通過(guò)干涉條紋的變動(dòng)反映出來(lái)。 測(cè)量曲面的精度和范圍受限于白光干涉儀的設(shè)計(jì)和技術(shù)條件。例如，在較大范圍的曲面測(cè)量中，由于光源的光程差異，干涉條紋可能不再呈現(xiàn)理想的分布，從而影響測(cè)量精度。因此，為了確保高精度的曲面測(cè)量，通常需要結(jié)合適當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)調(diào)節(jié)與數(shù)據(jù)分析技術(shù)。 白光干涉儀的應(yīng)用與局限性 白光干涉儀在各類行業(yè)中有廣泛的應(yīng)用，特別是在半導(dǎo)體、精密制造以及材料科學(xué)等領(lǐng)域。在這些應(yīng)用中，測(cè)量復(fù)雜曲面是一個(gè)常見(jiàn)需求，如在芯片制造中，曲面光學(xué)測(cè)試可用于檢查微小結(jié)構(gòu)的平整性，或在光學(xué)元件的生產(chǎn)中，用于檢測(cè)鏡面或透鏡表面的質(zhì)量。白光干涉儀并非萬(wàn)能，其局限性主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面： 測(cè)量范圍限制：由于白光干涉儀的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)，其測(cè)量范圍通常局限于較小的區(qū)域。對(duì)于大型或非常復(fù)雜的曲面，可能需要多個(gè)測(cè)量位置結(jié)合才能得到完整的數(shù)據(jù)。 環(huán)境因素影響：測(cè)量過(guò)程中，環(huán)境中的溫度、濕度等因素可能對(duì)干涉條紋產(chǎn)生干擾，從而影響測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。因此，實(shí)驗(yàn)環(huán)境的穩(wěn)定性是保證高精度測(cè)量的關(guān)鍵因素。 反射率的要求：白光干涉儀的測(cè)量效果較大程度上取決于表面的反射率。對(duì)于反射率較低或具有特殊光學(xué)性質(zhì)的曲面，可能需要額外的表面處理或者補(bǔ)充光源，以確保測(cè)量效果。 結(jié)語(yǔ) 白光干涉儀確實(shí)能夠測(cè)量曲面，并且在多個(gè)高精度應(yīng)用中展現(xiàn)了其強(qiáng)大的優(yōu)勢(shì)。盡管在某些條件下存在測(cè)量范圍和環(huán)境影響的限制，但通過(guò)合理的技術(shù)調(diào)整與優(yōu)化，這些問(wèn)題可以得到有效解決。未來(lái)，隨著技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展，白光干涉儀在曲面測(cè)量領(lǐng)域的應(yīng)用將更加廣泛和，推動(dòng)多個(gè)行業(yè)向更高精度的目標(biāo)邁進(jìn)。
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- 2023-08-21 11:50:20激光共聚焦熒光顯微鏡 活體熒光物質(zhì)檢查
- 激光共聚焦顯微鏡，簡(jiǎn)稱CLSM（Confocal Laser Scanning Microscopy），是一種利用激光共振效應(yīng)進(jìn)行成像的顯微鏡。它通過(guò)使用激光束掃描樣品的不同層面，將所得到的圖像合成成一幅清晰的三維圖像。與傳統(tǒng)顯微鏡相比，激光共聚焦顯微鏡具有更高的分辨率和更強(qiáng)的穿透能力，可以觀察到更加細(xì)微的結(jié)構(gòu)和更深層次的物質(zhì)。在活體熒光物質(zhì)的檢查中，激光共聚焦顯微鏡發(fā)揮了重要的作用。通過(guò)標(biāo)記活體細(xì)胞或組織的特定結(jié)構(gòu)或分子，激光共聚焦顯微鏡可以實(shí)時(shí)觀察到這些結(jié)構(gòu)或分子的活動(dòng)和分布情況。在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，它可以用于觀察細(xì)胞的生長(zhǎng)、分裂和死亡過(guò)程，研究細(xì)胞信號(hào)傳導(dǎo)和分子交互作用等。在藥物研發(fā)中，它可以用于觀察藥物在活體細(xì)胞或組織中的分布情況，評(píng)估藥物的療效和毒性。此外，在神經(jīng)科學(xué)領(lǐng)域，激光共聚焦顯微鏡可以用于觀察神經(jīng)元的活動(dòng)和連接，揭示大腦的工作機(jī)制。 NCF950激光共聚焦顯微鏡較寬場(chǎng)熒光顯微鏡的優(yōu)點(diǎn)：l 能夠通過(guò)熒光標(biāo)本連續(xù)生產(chǎn)薄（0.5至1.5微米）的光學(xué)切片，厚度范圍可達(dá)50微米或更大。（主要優(yōu)點(diǎn)）l 控制景深的能力。l能夠從樣品中分離和收集焦平面，從而消除熒光樣品通常看到的焦外“霧霾"，非共焦熒光顯微鏡下無(wú)法檢測(cè)到。（最重要的特點(diǎn)）l 從厚試樣收集連續(xù)光學(xué)切片的能力。l 通過(guò)三維物體收集一系列圖像，用于二維或三維重建。l收集雙重和三重標(biāo)簽，精確的共定位。l 用于對(duì)在不透明的圖案化基底上生長(zhǎng)的熒光標(biāo)記細(xì)胞之間的相互作用進(jìn)行成像。l 有能力補(bǔ)償自發(fā)熒光。 耐可視共聚焦成像效果圖 尼康共聚焦成成像效果圖NCF950激光共聚焦顯微鏡應(yīng)用，共聚焦顯微鏡在以下研究領(lǐng)域中應(yīng)用較為廣泛：1、細(xì)胞生物學(xué)：細(xì)胞結(jié)構(gòu)、細(xì)胞骨架、細(xì)胞膜結(jié)構(gòu)、流動(dòng)性、受體、細(xì)胞器結(jié)構(gòu)和分布變化、細(xì)胞凋亡；2、生物化學(xué)：酶、核酸、FISH、受體分析3、藥理學(xué)：藥物對(duì)細(xì)胞的作用及其動(dòng)力學(xué)；4、生理學(xué)：膜受體、離子通道、離子含量、分布、動(dòng)態(tài)；5、遺傳學(xué)和組胚學(xué)：細(xì)胞生長(zhǎng)、分化、成熟變化、細(xì)胞的三維結(jié)構(gòu)、染色體分析、基因表達(dá)、基因診斷；6、神經(jīng)生物學(xué)：神經(jīng)細(xì)胞結(jié)構(gòu)、神經(jīng)遞質(zhì)的成分、運(yùn)輸和傳遞；7、微生物學(xué)和寄生蟲(chóng)學(xué)：細(xì)菌、寄生蟲(chóng)形態(tài)結(jié)構(gòu)；8、病理學(xué)及病理學(xué)臨床應(yīng)用：活檢標(biāo)本的快速診斷、腫瘤診斷、自身免疫性疾病的診斷；9、生物學(xué)、免疫學(xué)、環(huán)境醫(yī)學(xué)和營(yíng)養(yǎng)學(xué)。NCF950激光共聚焦顯微鏡配置NCF950激光共聚焦配置表激光器激光405 nm、488 nm、561 nm、640 nm探測(cè)器波長(zhǎng)：400-750nm，探測(cè)器：3個(gè)獨(dú)立的熒光檢測(cè)通道；1個(gè)DIC透射光檢測(cè)通道掃描頭最大像素大小：4096 x 4096 掃描速度：2 fps（512 x 512像素，雙向），18 fps（512 x 32像素，雙向），圖像旋轉(zhuǎn): 360°掃描模式X-T, Y-T, X-Y, X-Y-Z, X-Y-Z-T針孔無(wú)級(jí)變速六邊形電動(dòng)針孔；調(diào)節(jié)范圍：0-1.5毫米共焦視場(chǎng)φ18mm內(nèi)接正方形圖像位深12bits配套顯微鏡NIB950全電動(dòng)倒置顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)NIS60無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)（F200)目鏡(視野)10×(25)，EP17.5mm，視度可調(diào)-5～+5，接口Φ30觀察鏡筒鉸鏈?zhǔn)饺坑^察鏡筒，45度傾斜，瞳距47-78mm，目鏡接口Φ30，固定視度；1）目/攝切換：（100/0,50/50,0/100)；2）目視/關(guān)閉目視/可調(diào)焦勃氏鏡NIS60物鏡10×復(fù)消色差物鏡，NA=0.45 WD=4.0 蓋玻片=0.1720×復(fù)消色差物鏡，NA=0.75 WD=1.1 蓋玻片=0.1760×半復(fù)消色差物鏡，NA=1.40 WD=0.14 蓋玻片=0.17 油鏡100×復(fù)消色差物鏡，NA=1.45 WD=0.13 蓋玻片=0.17 油鏡物鏡轉(zhuǎn)換器電動(dòng)六孔轉(zhuǎn)換器（擴(kuò)展插槽），M25×0.75聚光鏡6孔位電動(dòng)控制：NA0.55，WD26；相襯(10/20,40,60選配）DIC（10X，20X/40X）選配.空孔照明系統(tǒng)透射柯拉照明，10W LED照明；落射照明：寬場(chǎng)光纖照明6孔位電動(dòng)熒光轉(zhuǎn)盤(pán)（B，G，U標(biāo)配）；電動(dòng)熒光光閘；中間倍率切換手動(dòng)1X，1.5X、共焦切換機(jī)身端口分光比：左側(cè):目視=100：0；右側(cè):目視=100：0；平臺(tái)電動(dòng)控制：行程范圍130 mm x100 mm （臺(tái)面325 mm x 144 mm ）最大速度：25mm/s；分辨率：0.1μm - 重復(fù)精度：3μm。機(jī)械可調(diào)樣品夾板調(diào)焦系統(tǒng)同軸粗微動(dòng)升降機(jī)構(gòu)，行程：焦點(diǎn)上7下2；粗調(diào)2mm/圈，微調(diào)0.002mm/圈；可手動(dòng)和電動(dòng)控制，電動(dòng)控制時(shí)，最小步進(jìn)0.01um；DIC插板10X，20X，40X插板；可放置于轉(zhuǎn)換器插槽；選配控制搖桿，控制盒，USB連接線軟件軟件：NOMIS Advanced C圖像顯示/圖像處理/分析2D/3D/4D圖像分析，經(jīng)時(shí)變化分析，三維圖像獲得及正交顯示，圖像拼接，多通道彩色共聚焦圖像
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- 2023-08-21 11:41:24熱點(diǎn)應(yīng)用丨OLED的光致發(fā)光和電致發(fā)光共聚焦成像
- 要點(diǎn)光致發(fā)光和電致發(fā)光是有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）視覺(jué)顯示發(fā)展的重要技術(shù)。與共聚焦顯微鏡相結(jié)合，使用RMS1000共聚焦顯微拉曼光譜儀對(duì)OLED器件的光電特性進(jìn)行成像研究。光譜和時(shí)間分辨成像獲得了比宏觀測(cè)試更詳細(xì)的器件組成和質(zhì)量信息。介紹近年來(lái)，有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）已成為高端智能手機(jī)和電視全彩顯示面板的領(lǐng)先技術(shù)之一1。使用量的快速增長(zhǎng)是因?yàn)镺LED提供了比液晶顯示器（LCD）更卓 越的性能。例如，它們更薄、更輕、更靈活、功耗更低、更明亮2。在典型的OLED器件中，電子和空穴被注入到傳輸層中，然后在中心摻雜發(fā)光層中復(fù)合。這種復(fù)合產(chǎn)生的能量通過(guò)共振轉(zhuǎn)移到摻雜分子中，從而使其發(fā)光。OLED發(fā)光的顏色取決于發(fā)光層中所摻雜分子的化學(xué)結(jié)構(gòu)。當(dāng)新的有機(jī)電致發(fā)光器件開(kāi)發(fā)出來(lái)時(shí)，可以利用光致發(fā)光（PL）和電致發(fā)光（EL）光譜來(lái)表征單個(gè)元件和整個(gè)器件的光電特性。在本文中，RMS1000共聚焦顯微拉曼光譜儀用于表征四種成像模式下OLED器件的光電特性：PL、EL、時(shí)間分辨PL（TRPL）和時(shí)間分辨EL（TREL）。使用共聚焦顯微拉曼光譜儀來(lái)表征OLED的光譜和時(shí)間分辨特性獲得了比宏觀測(cè)試更詳細(xì)的信息。材料和方法測(cè)試樣品為磷光OLED器件，由圣安德魯斯大學(xué)有機(jī)半導(dǎo)體光電研究組提供。將樣品放置在冷熱臺(tái)（LINKAM）上，通過(guò)兩個(gè)鎢探針連接到器件電極上實(shí)現(xiàn)成像。使用RMS1000共聚焦顯微拉曼光譜儀進(jìn)行PL、EL、時(shí)間分辨PL（TRPL）和時(shí)間分辨EL（TREL）成像，如圖1。圖1 PL、TRPL、EL和TREL成像的實(shí)驗(yàn)裝置。將裝載樣品的冷熱臺(tái)放置在顯微鏡樣品臺(tái)上，如圖2所示。對(duì)于PL測(cè)試，使用532 nm CW激光器和背照式CCD探測(cè)器；對(duì)于TRPL測(cè)試，使用外部耦合的EPL-405皮秒脈沖激光器、MCS模式和快速響應(yīng)的PMT。對(duì)于EL測(cè)試，使用Keithley 2450 SMU向OLED器件加電壓，并用CCD探測(cè)器檢測(cè)；對(duì)于TREL測(cè)試，使用Tektronix 31102 AFG向OLED加一系列短脈沖電壓，使用MCS模式測(cè)試每個(gè)脈沖下的衰減。圖2 (a)安裝在RMS1000上的冷熱臺(tái)；(b) OLED器件電致發(fā)光寬場(chǎng)成像。測(cè)試結(jié)果與討論大面積光致發(fā)光和電致發(fā)光光譜成像OLED首次采用PL和EL光譜相結(jié)合的方法進(jìn)行研究。當(dāng)使用共聚焦顯微拉曼光譜儀成像時(shí)，可以表征材料在整個(gè)器件中的分布以及在發(fā)光強(qiáng)度和顏色均勻性方面的整體質(zhì)量。圖3中的PL成像和相應(yīng)的光譜提供了器件上4個(gè)區(qū)域發(fā)光層分布的信息，還顯示了電極的位置。圖3 (a)OLED器件的PL光譜強(qiáng)度成像；(b)a中標(biāo)記的點(diǎn)1和點(diǎn)2的PL光譜。白色和灰色代表PL強(qiáng)度，顯示了有機(jī)發(fā)光層的位置。灰色區(qū)域?yàn)榘l(fā)光層被頂部電極覆蓋的位置。在頂部電極穿過(guò)發(fā)光層的地方，PL強(qiáng)度降低為未覆蓋區(qū)域強(qiáng)度的一半以下。這是由于頂部電極材料削弱了激光強(qiáng)度和光致發(fā)光強(qiáng)度。對(duì)于EL成像，鎢探針連接到與區(qū)域2相交的電極上。圖4中得到的EL圖像和相應(yīng)的光譜表明了EL發(fā)光僅發(fā)生在區(qū)域2中的發(fā)光層與電極重疊的區(qū)域。在PL成像中，空間分辨率主要取決于樣品上激光光斑的大小。而在EL成像中，由于沒(méi)有激光，因此是通過(guò)改變共焦針孔直徑來(lái)改變空間分辨率（將針孔直徑減小到25 μm）。圖4 (a)OLED器件的EL光譜強(qiáng)度成像；(b)a中標(biāo)記的點(diǎn)1和點(diǎn)2的EL光譜。EL強(qiáng)度在整個(gè)有源像素上不均勻，這對(duì)器件的質(zhì)量有影響。在區(qū)域外邊緣有兩個(gè)（白色）垂直條帶，強(qiáng)度比其余部分強(qiáng)。此外，存在許多EL強(qiáng)度降低的非發(fā)光區(qū)域。這表明器件有缺陷，理想情況下，OLED將在每個(gè)像素上呈現(xiàn)出密集和均勻的發(fā)光。高分辨率光致發(fā)光和電致發(fā)光光譜成像為了進(jìn)一步研究，使用PL和EL對(duì)EL有源像素上的較小區(qū)域（圖5a和圖5b）進(jìn)行高分辨成像。圖5b網(wǎng)格內(nèi)的上部區(qū)域是發(fā)光層與電極重疊的地方，下部區(qū)域是單獨(dú)的發(fā)光層。圖5c為 PL強(qiáng)度成像，再次表明被電極覆蓋的發(fā)光層PL強(qiáng)度小于未覆蓋的發(fā)光層。PL峰值波長(zhǎng)圖像（圖5d）表明，有電極覆蓋的發(fā)光層與未覆蓋的發(fā)光層（611 nm）相比，PL發(fā)射峰發(fā)生紅移（620 nm）。峰值波長(zhǎng)的變化表明在不同的區(qū)域中能級(jí)不同。圖5 (a) OLED器件電致發(fā)光寬場(chǎng)成像；(b)a網(wǎng)格內(nèi)的高分辨率寬場(chǎng)成像；(c)PL強(qiáng)度成像；(d)相同區(qū)域的PL峰值波長(zhǎng)成像；(e)EL強(qiáng)度成像；(f)相同區(qū)域的EL峰值波長(zhǎng)成像。EL成像顯示，與其余部分相比發(fā)射強(qiáng)度較弱的缺陷（圖5e）波長(zhǎng)發(fā)生明顯紅移（圖5f）。這是由于缺陷處的EL能帶的信號(hào)強(qiáng)度降低以及在662 nm處EL能帶信號(hào)強(qiáng)度同時(shí)增加引起的。另外，在EL有源區(qū)域的最 底部的區(qū)域中，發(fā)生藍(lán)移，這與在PL圖像上看到的波長(zhǎng)變化一致。高分辨率時(shí)間分辨光致發(fā)光和電致發(fā)光成像為獲得額外信息，在同一區(qū)域進(jìn)行TRPL和TREL成像，如圖6所示。分別用激光脈沖和電脈沖，在MCS模式下測(cè)試614 nm處OLED的PL和EL衰減。利用單指數(shù)模型擬合衰減曲線。在圖6a的TRPL成像中，EL活性區(qū)域（上部區(qū)域）中的PL壽命比EL非活性區(qū)域（下部區(qū)域）中的PL壽命短大約200 ns。如圖6c所示，分別為800 ns和600 ns。這里觀察到與圖4中PL強(qiáng)度和波長(zhǎng)圖像的類似梯度，沿圖向下方向的發(fā)射強(qiáng)度增強(qiáng)，并且發(fā)生了藍(lán)移。因此，根據(jù)TRPL數(shù)據(jù)可得：當(dāng)光激發(fā)時(shí)，通過(guò)摻雜帶可獲得不同的能級(jí)。在圖6b中的TREL成像中，整個(gè)區(qū)域的壽命相似，大約為470 ns。發(fā)現(xiàn)EL壽命顯著短于相同區(qū)域的PL壽命。圖6 (a)OLED的時(shí)間分辨PL成像；(b)OLED的時(shí)間分辨EL成像；(c)a中選定區(qū)域的PL衰減曲線；(d)b中圖像的EL衰減曲線。結(jié)論RMS1000共聚焦顯微拉曼光譜儀用于測(cè)試OLED器件的PL、EL、TRPL和TREL成像。這些不同的成像模式提供了關(guān)于發(fā)光層和電極在整個(gè)器件中位置的詳細(xì)信息，在工作條件下器件的發(fā)光強(qiáng)度和顏色均勻性，以及關(guān)于PL和EL過(guò)程中帶隙能量的相對(duì)信息。參考文獻(xiàn)1. A. Salehi et al., Recent Advances in OLED Optical Design, Adv. Funct. Mater., 2019, 29, 1808803, DOI: 10.1002/adfm.201808803.2. J. M. Ha et al., Recent Advances in Organic Luminescent Materials with Narrowband Emission, NPG Asia Mater., 2021, 13, 1–36, DOI: 10.1038/s41427-021-00318-8.天美分析更多資訊
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