雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。

雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。

高精度的增材制造可打印出尖端的折射微納光學元件。得益于雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。

借助我們雙光子聚合技術獨有的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。

微米級增材制造能夠突破傳統微納光學設計的極限，借助雙光子聚合技術的優秀性能，可以輕松實現球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。

Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統是一款真正意義上的全能機型。基于雙光子聚合技術，該系統不僅是快速成型制作的Z佳機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規模化生...