產品功能介紹
　　Gatan公司的精密刻蝕鍍膜儀 (PECS?) II 是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。對于同一個樣品，可在同一真空環境下完成拋光及鍍膜。

技術特點：
　　精密刻蝕鍍膜儀 (PECS?) II，采用兩個寬束氬離子束對樣品表面進行拋光，去除損失層，從而得到高質量的樣品，用于在SEM、光鏡或者掃描電子探針上進行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外將這兩支離子槍對準靶材濺射，可用來對樣品做導電金屬膜沉積處理，以防止樣品在電鏡中發生荷電效應。
　　這款儀器被設計為不破壞真空，不將樣品新鮮表面暴露在大氣中，即可對拋光樣品進行處理。樣品的裝卸是通過一個專門設計的裝樣工具在真空交換艙中完成。
　　兩支具有更大電壓范圍的小型潘寧離子槍，可提供快速柔和的拋光效果。低至100eV的離子束提供更柔和的拋削效果，用于樣品的拋光。低能聚焦電極使得離子束的直徑在幾乎整個加速電壓范圍內都保持一致。每個離子槍都能準確獨立地進行對中。在儀器運行過程中，離子槍的角度可隨時進行調整。離子槍的氣流可在觸摸屏上通過手動方式或者自動方式進行調整， 用于優化離子槍的工作電流。
　　PECS II樣品臺采用液氮制冷方式。可以有效的保護樣品，避免離子束熱損傷，消除可能的假象。
　　集成的10英寸彩色觸摸屏計算機可對PECS II系統的所有操作參數進行完全控制。此界面不僅可以設定所有參數并能夠監控拋光過程。所有的操作參數還可以存為配方，調用配方可獲得高精度重復實驗。
　　渦輪分子泵搭配兩級隔膜泵保證了超潔凈環境。通過Gatan的樣品裝卸工具能實現快速樣品交換（< 1min），這樣就能保證換樣過程中加工艙室始終處在高真空狀態。

圖片說明：（A）PECSII 拋光的樣品表面的二次電子像，顯示出高度孿晶的晶粒（B）PECSII拋光后的鋯合金的菊池花樣（C）EBSD歐拉角分布圖（D）IPFZ面分而戰。照片由牛津大學材料學院AngusWilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。數據是在配有BrukerQuantax EBSD系統的Zeiss Merlin Compact掃描電鏡上采集。

技術參數：
離子源
*離子槍兩支配有稀土磁鐵的潘寧離子槍，高性能無耗材
*拋光角度±10°, 每支離子槍可獨立調節
離子束能量100 eV 到 8.0 keV
離子束流密度10 mA/cm2 峰值
離子束直徑可用氣體流量計或放電電壓來調節

樣品臺
樣品大小：較大直徑 32mm， 大高度 15mm
樣品裝載： 對于截面樣品拋光采用 Ilion? II ZG的樣品擋板，二次再加工位置精確。
樣品拋光及鍍膜功能：兼具有平面拋光、截面拋光及濺射鍍膜功能，靶材數：2個
靶材切換：無需破壞真空，可直接切換
樣品旋轉：1 到 6 rpm 可調
束流調制：角度可調的單束調制或雙束調制

真空系統
干泵系統80 L/s 的渦輪分子泵配有兩級隔膜泵
壓力5 x 10-6 torr 基本壓力
8 x 10-5 torr 工作壓力
真空規冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級機械泵
*樣品空氣鎖WhisperlokZG技術，無需破壞主樣品室真空即可裝卸樣品，樣品交換時間 < 1 min
用戶界面
*10 英寸觸摸屏操作簡單，且能夠完全控制所有參數和配方式操作
*操作界面語言：提供中文、英文等多種選擇

產品主要應用領域：
EBSD樣品制備
截面樣品制備
金屬材料（合金，鍍層）
石油地質巖石礦物
光電材料
化工高分子材料
新能源電池材料