Explorer是多功能的高真空研發和中試生產平臺，其配置可為電子束(e-beam) 蒸發、電阻蒸發或磁控濺射。所有三種配置中均可選配離子輔助沉積功能。

DV-502 熱蒸發系統蒸發光學鍍膜、金屬化和電子顯微鏡樣品制備中涉及的許多金屬，且沒有可辯的污染。 DV-502還提供一系列配置的靈活性。

Desktop Pro以共焦結構支持一個或兩個陰較為，在4英寸直徑上提供高薄膜均勻性。其能夠在不到30分鐘的時間內抽氣至高真空(10-6托范圍)，這是需要快速轉換的多用戶環境中完美解決方案。

BenchTop Turbo可安裝兩個靶，亦可進行共聚焦沉積，非常適合熱阻蒸發、樣品制備濺射和旋轉遮蔽。其性能穩定，可靠性高。

Desk V樣品制備系統配制用于蒸發和濺射，是一種高生產率的解決方案，可提供卓越、一致和高度可重復的結果。

EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術（ECR）的小型離子束蝕刻系統，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、沉積等。

脈沖激光沉積（PLD）是用于薄膜沉積的通用工藝，其主要優點是將材料按化學計量從靶轉移到基板。